Scheda Progetto

Dati aggiornati al: 31/08/2016

Progetto

Sviluppo di tecnologie in guida d'onda integrata (SIW) per applicazioni ICT a microonde

Cod. PON01_01224

Risultati aggiornati al: 18/11/2013

SEGUI IL PROGETTO

Lo scopo del presente progetto di ricerca consiste nello sviluppo di componenti in guida d'onda integrata nel substrato (substrate integrate waveguide - SIW), come, ad esempio, filtri, ibridi, componenti di "frequency-shaping" ed antenne. Pertanto, il primo obiettivo dell'attività consiste nella messa a punto degli strumenti software necessari all'analisi. Alla fine di questa fase sarà possibile impiegare tali software per una valutazione accurata delle caratteristiche elettriche della guida SIW. Tale valutazione costituirà il secondo obiettivo della proposta di ricerca.  Il terzo obiettivo consiste nella progettazione di dispositivi di particolare interesse industriale.  Il quarto obiettivo riguarda la misura dei dispositivi costruiti e le eventuali correzioni di progetto, necessari per l'industrializzazione dei componenti stessi. Il quinto obiettivo, invero il più gravoso dal punto dell'investimento, consiste nell'affinamento della migliore tecnologia, in termini di prestazioni/costo, per la realizzazione di dispositivi SIW.  Il successo dell'intera operazione è infatti legato alla possibilità di ottenere dispositivi di prestazioni poco inferiori a quelle tipiche delle guide d'onda, impiegando la tecnologia economica dei circuiti planari. Tale risultato dipenderà fortemente dai processi di scelta e di lavorazione dei materiali, e da quelli di fabbricazione dei componenti. Poiché l'obiettivo finale è a largo spettro, non trattandosi di un singolo componente/dispositivo ma di un'intera classe di componenti, il risultato finale del progetto sarà un'integrazione di servizi (capacità di realizzare su specifica componentistica SIW e più in generale componenti passivi planari a microonde ed onde millimetriche), processi (standardizzazione del processo industriale per la realizzazione di componenti SIW entro tolleranze tali da consentire la ripetibilità delle prestazioni ottenute in fase di prototipazione) e di prodotti (realizzazione di prototipi e prodotti SIW).